HỘI THẢO CHUYÊN ĐỀ] VƯỢT XA PHÂN TÍCH KIM LOẠI VẾT – XU HƯỚNG VÀ ỨNG DỤNG CỦA ICP-MS TƯƠNG LAI

Phân tích kim loại vết không còn là giới hạn của ICP-MS. Những công nghệ mới đang mở rộng khả năng phân tích và đáp ứng những yêu cầu ngày càng cao trong nghiên cứu, kiểm nghiệm và phân tích.

REDSTAR-CMS trân trọng kính mời Quý khách hàng tham gia hội thảo “Vượt xa phân tích kim loại vết – Xu hướng và ứng dụng của ICP-MS tương lai” để cùng cập nhật những xu hướng công nghệ mới nhất, khám phá các giải pháp đột phá và trao đổi trực tiếp với các chuyên gia về định hướng phát triển của ICP-MS trong tương lai.

📍 Những nội dung đáng chú ý tại hội thảo

• Cập nhật xu hướng phát triển của công nghệ ICP-MS trên thế giới và những yêu cầu, thách thức mới trong phân tích nguyên tố.
• Khám phá các công nghệ tiên tiến giúp nâng cao hiệu quả phân tích như Collision/Reaction Cell, UHMI, tự động hóa hệ thống và ICP-MS ba tứ cực (ICP-MS/MS).
• Tìm hiểu các ứng dụng tiên phong của ICP-MS trong phân tích nguyên dạng (Elemental Speciation) và phân tích hạt nano đơn lẻ (Single Particle ICP-MS).
• Thảo luận cùng chuyên gia về xu hướng công nghệ, chiến lược đầu tư và chia sẻ kinh nghiệm thực tế trong vận hành hệ thống ICP-MS.

🎯 Thông tin chương trình

• 📅 Thời gian: Thứ 6, ngày 31.07.2026
• 📍 Địa điểm: Văn phòng REDSTAR – CMS    Tòa nhà Vạn Đạt, Lô II-1, Đường số 8, Nhóm CN 2, KCN Tân Bình, phường Tây Thạnh, Hồ Chí Minh